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Former une couche de graphène en moins d’une minute grâce à la CVD

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Former une couche de graphène en moins d’une minute grâce à la CVD

 

Description

Avec ses propriétés électriques et mécaniques exceptionnelles,  le graphène attire de plus en plus d’attention dans nombre de domaines. Un des obstacles empêchant encore l’adoption massive du graphène demeure les coûts élevés associés à la plupart des méthodes de fabrication connues, en particulier dans le cas des feuilles de graphène de grandes dimensions. L’invention est une amélioration au procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) standard qui permet, par un contrôle étroit des différents gaz dans le réacteur, de déposer une couche complète de graphène en moins d’une minute au lieu des 30 minutes habituelles. Avec seulement quelques changements mineurs à l’équipement standard, la technologie permet de réduire significativement les coûts en énergie tout en augmentant le rendement.

Informations générales

Catégorie: 
Matériaux / technologies vertes / chimie industrielle
Chercheur: 
Pierre Levesque

Contact: Chloé Archambault, Ing.
Directrice de projets, Développement des affaires,
chloe.archambault@univalor.ca